纽约州立大学纳米学院的全球450mm联盟选择将SOKUDO浸没式ArF光刻Track技术嵌入大日本网屏在纽约的450mm成套工具中

大日本网屏制造株式会社(Dainippon Screen Mfg.)证实，其子公司开发的SOKUDO DUO 450mm涂层/显影系统(coat/develop track system)已被总部位于奥尔巴尼市纽约州立大学(SUNY)纳米科学与工程学院(CNSE)的全球450mm联盟(G450C)选中，用于浸没式ArF光刻技术和定向自组装(DSA)应用。SOKUDO DUO将被嵌入位于CNSE的NanoFab Xtension内由大日本网屏提供的成套450mm清洗设备中。大日本网屏提供的450mm硅片刷洗机、单晶圆清洗以及毫秒退火系统将部署在G450C计划安装的设备中。G450C是由纽约州州长安德鲁·库默(Andrew M. Cuomo)于2011年9月宣布组建的公共私营合作制(public-private partnership, PPP)联盟，旨在促进该行业向新的标准450mm晶圆尺寸转型。该联盟由CNSE联合英特尔(Intel)、IBM、GLOBALFOUNDRIES、三星(Samsung)和台积电(TSMC)牵头组建。

SOKUDO DUO拟采用与450mm浸没式ArF光刻系统一致的接口，并将于2014年夏季运抵纽约州奥尔巴尼市G450C总部，届时将启动所有安装与参数特征化工作。此举极力响应并支持2013年7月纽约州发布的一份公告，该公告计划将于2015年4月向CNSE提供一套450mm晶圆ArF浸没式光刻系统。值得注意的是，作为与G450C达成协议的一部分，SOKUDO也将提供450mm虚拟晶圆厂track工艺支持，从而实现450mm DSA图案化测试晶圆制造用于G450C成员的设备开发。DSA图案化功能也将集成入SOKUDO DUO中，用于辅助采用浸没式ArF曝光的光刻工艺。

SOKUDO Co., Ltd.首席执行官兼大日本网屏半导体设备公司总裁Tadahiro Suhara表示：“总部位于纽约州的G450C及其成员公司是450mm晶圆转型的先驱，能够与他们并肩合作我们感到十分高兴。大日本网屏集团参与G450C项目的深度印证了我们在450mm半导体制造设备开发中的领导地位。尤其值得自豪的是该项目选择了SOKUDO DUO 450mm track系统，此举将巩固我们长期作为前沿track供应商的地位。

CNSE制造创新副总裁兼G450C总经理Paul Farrar, Jr.,表示：“在安德鲁·库默州长的领导与宏伟愿景的指导下，纽约进一步成为产业向450mm晶圆技术实现关键转变的中心。我们非常高兴与大日本网屏的半导体设备公司继续合作，并对其子公司 SOKUDO Co., Ltd参与帮助向450mm晶圆技术实现重大转变表示热烈欢迎。”

2013年7月，在美国西部半导体展(SEMICON West)期间举办的SOKUDO光刻技术早餐论坛上曾披露，SOKUDO DUO 按比例增大的一种450mm整片已经在大日本网屏工艺技术中心（位于日本彦根市）的洁净室内运行一年以上。SOKUDO是首批极力支持该联盟的公司之一，其推出了各种450mm薄膜涂层的测试晶圆，包括用于实现450mm纳米压印光刻图案化、DSA功能及参数特征化的粘附性涂层。

作为半导体设备的领导企业，大日本网屏和SOKUDO将继续推出世界一流的产品，为行业发展做出贡献。

关于大日本网屏制造有限公司

大日本网屏成立于1943年，目前位居晶圆清洗与退火系统等半导体设备全球供应商前十强。多年以来，公司借助多年来开发的磁心映像处理、光刻与清洗技术，包括涉及平板显示器、印刷电路板和媒体技术方面的业务，其规模已得到进一步扩大。网址：www.screen.co.jp/eng/

关于SOKUDO Co., Ltd.

SOKUDO是大日本网屏旗下子公司，专注于开发面向半导体生产的先进的涂层/显影系统。其系列产品广泛用于各种光刻应用（例如：i-line、KrF、浸没式ArF、EUV、电子束），以及基板规格在50-450mm范围内的各种利基市场。网址：www.sokudo.com

关于纽约州立大学纳米科学与工程学院

纽约州立大学(SUNY)纳米科学与工程学院(CNSE)是新兴纳米科学、纳米工程、纳米生物科学以及纳米经济学学科领域的全球一流的学院。CNSE是由大学推动的全球顶尖研究型企事业单位，其拥有超过200亿美元的高科技投资及300多家企业合作伙伴。占地130万平方英尺的奥尔巴尼NanoTech megaplex是汇聚有逾3100名科学家、研究人员、工程师及师生的大本营。网址：www.sunycnse.com

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