东芝启动全球首批15纳米NAND闪存量产
关键字:应用
东芝公司(Toshiba Corporation, TOKYO:6502)今天宣布,该公司已开发出全球首个15纳米(nm)*1工艺技术,该技术将应用于容量128Gb (16GB)、每单元容量2比特(2-bit-per-cell)的NAND闪存中。采用新技术的量产将于四月底在位于四日市业务部(Yokkaichi
Operations)生产基地的Fab 5启动,从而取代东芝此前的一流工艺——第二代19纳米工艺技术。Fab 5是东芝的NAND闪存制造厂(晶圆厂)。Fab 5的第二阶段施工目前正有条不紊地进行中,而新工艺技术也将在此部署。
东芝已借助15纳米工艺及改良的外围电路技术实现全球较小级别的芯片尺寸。这一新型芯片具有与采用第二代19纳米工艺技术形成的芯片相同的写入速度,但其通过采用高速接口,使得数据传输速率增加至每秒533MB,这一速率是采用第二代工艺技术的芯片的1.3倍。
东芝目前使用搭载15纳米工艺技术、每单元容量3比特的芯片,并计划于本财年的第一季度至2014年6月期间启动量产。该公司将同时为嵌入式NAND闪存开发控制器,并面向智能手机和平板电脑推出每单元容量3比特产品,之后还将通过开发与固态驱动器(SSD)兼容的控制器,以将应用扩展到笔记本电脑。
东芝将继续紧密遵循其工艺技术开发蓝图,并通过将一流的工艺投入生产来增强产品竞争力和性能。展望未来,东芝将进一步推进产品创新和开发,以及确保其能够响应各种不同的客户产品需求,包括智能手机、平板电脑、纤薄笔记本电脑,以及要求高稳定性的企业产品(如面向数据中心提供的SSD),以巩固其市场领导地位。
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